1、機械拋光：機械拋光分為粗拋光和細拋光。粗拋光是在轉(zhuǎn)速200-300轉(zhuǎn)/分的電動拋光盤上用粗呢絨停止的。在粗拋光的過程中，要恰當?shù)娜錾陷^粗的氧化鉻、氧化鋁或氧化鎂拋光液，并堅持拋光盤上呢絨的潮濕。在粗拋光過程中要拿緊試樣，沿拋光盤的徑向往復運動，平均地調(diào)整所施加的壓力，留意其壓力也不應(yīng)過大。拋光開端時，要不時的撒些拋光液。以后漸漸減輕壓力，減低拋光液的濃度直至拋光到細磨痕消逝，平整光亮且沒有黑點時為止。粗拋光的試樣經(jīng)水洗凈后再停止細拋光，經(jīng)過細拋光以求肅清粗拋光所留下的磨痕，使磨面光亮平整。細拋光所用的拋光機與粗拋光所用的設(shè)備根本相同，其轉(zhuǎn)速為150-200轉(zhuǎn)/分。
  細拋光采用柔軟的毛織物，通常用細呢絨停止拋光。拋光粉要更細些，市面上售的氧化鉻經(jīng)水選浮后可用于細拋光。若要得到更好的拋光效果，可選用細氧化鎂或氧化鋁作拋光液在麂皮上手工拋光。在細拋光過程中施加的壓力應(yīng)比粗拋光時輕，拋光液不要太濃，絨盤要堅持一定的濕度。由于呢絨太干，容易將磨面劃傷，呈現(xiàn)較深較多的劃痕;呢絨太濕也不好，會使磨面氧化。呢絨濕度隨著拋光過程的停止而逐步減少。經(jīng)常察看試樣細拋光的狀況，提起后在試樣的拋光面上不粘帶拋光液及小的水珠。而堅持一吹即干的水膜時，要悄悄拋光。待試樣的粗拋光磨痕消逝，基體清亮，拿起后在試樣的拋光面上無水膜時，試樣的細拋光曾經(jīng)適宜。若運用氧化鎂拋光粉時，要隨用隨配，用過后應(yīng)將呢絨盤取下，放在活動水中認真清洗，以防潮解蛻變。試樣在拋制過程中無論是粗拋光或細拋光都不宜時間過長，壓力過大，否則將拋掉合金中的相，使磨面的變形層加深，從而影響拋光質(zhì)量，在下一步察看時得出錯誤的組織結(jié)論。
 
  2、化學拋光：化學拋光是讓資料在化學介質(zhì)中外表微觀凸出的局部較凹局部優(yōu)先溶解，從而得到平滑面。這種辦法的主要優(yōu)點是不需復雜設(shè)備，能夠拋光外形復雜的工件，能夠同時拋光很多工件，效率高?；瘜W拋光的中心問題是拋光液的配制?；瘜W拋光得到的外表粗糙度普通為數(shù)10μm。
 
  3、點解拋光：工件上脫離的金屬離子與拋光液中的磷酸構(gòu)成一層磷酸鹽膜吸附在工件外表，這種黏膜在凸起處較薄，凹處較厚，因凸起處電流密度高而溶解快，隨黏膜活動，凹凸不時變化，粗糙外表逐步被整平的過程。  工件作為陽極接直流電源的正極。用鉛、不銹鋼等耐電解液腐蝕的導電資料作為陰極，接直流電源的負極。兩者相距一定間隔浸入電解液(普通以硫酸、磷酸為根本成分)中，在一定溫度、電壓和電流密度(普通低于1安/厘米2 )下，通電一定時間(普通為幾十秒到幾分)，工件外表上的微小凸起局部便首先溶解，而逐步變成平滑光亮的外表